JETKepler DSE- Травление кремнием с высокой степенью глубины

Технические характеристики

JETKepler - это монолитная платформа для плазменного оборудования, независимо разработанная компанией Jiyi Technology. Он в основном используется при травлении пластин и высокотемпературном плазменном окислении поверхности и азотировании. JETKepler отличается превосходной равномерностью температуры, высокой производительностью и более длительным временем наработки на отказ, а также более низкими затратами на владение и эксплуатацию.

Область применения:

300 мм IC

Упаковка полупроводников

Эксплуатационные характеристики:

Разработка передовых систем газовой и радиочастотной коммутации переменного тока

Оптимизированное заданное значение ключевых параметров процесса и алгоритм, более подходящие для процесса травления с более высоким AR Si

Система управления несколькими температурными зонами для повышения однородности

Более высокая производительность, более длительный период наработки на отказ

Снижение затрат на владение и эксплуатацию

Более длительное приготовление/ CoC

Размер пластины: 12 дюймов

Пленка для травления: Si/SiO2/SiN.

Применение: Травление 2.5D и 3D TSV; Травление изоляции глубокой траншеи в КМОП-датчике изображения; Глубокая траншея в силовом устройстве.