JETKepler 2300- Травление свободными радикалами с высоким коэффициентом отбора

Технические характеристики

JETKepler - это монолитная платформа для плазменного оборудования, независимо разработанная компанией Jiyi Technology. Он в основном используется при травлении пластин и высокотемпературном плазменном окислении поверхности и азотировании. JETKepler отличается превосходной равномерностью температуры, высокой производительностью и более длительным временем наработки на отказ, а также более низкими затратами на владение и эксплуатацию.

Область применения:

300 мм IC

Эксплуатационные характеристики:

Травление проводниковых/полупроводниковых материалов с высоким коэффициентом отбора.

Плазменная система с высокой плотностью свободных радикалов с низким повреждением

Система управления несколькими температурными зонами для повышения однородности

Более высокая производительность, более длительный период наработки на отказ

Снижение затрат на владение и эксплуатацию

Более длительное приготовление / CoC

Размер пластины: 12 дюймов

Пленка для травления: Poly Si/ /TiN/ W/ SiN / SiGe .

Применение: Выемка TiN / W / Poly Si в DRAM; Выемка Poly Si / W в 3D NAND; Удаление фиктивного Poly в логической микросхеме.