Оборудование для литографии с нано-тиснением

Устройство может воспроизводить наноструктуры с максимальной площадью пластины 100/200/300 мм, высокой точностью и высоким соотношением сторон. Оборудование поддерживает использование твердых и мягких форм для тиснения, и рабочие формы могут быть скопированы в оборудовании без необходимости использования внешнего оборудования для копирования рабочих форм.

Технические характеристики

• Большая площадь, высокая точность, высокое соотношение сторон, УФ-тиснение/термическое тиснение в сочетании с оборудованием для нано-тиснения;
• Процессы УФ-тиснения или термического тиснения могут быть реализованы отдельно, и комбинированный процесс УФ-тиснения/термического тиснения также может быть реализован одновременно на месте;
• Равномерное давление газа, давление тиснения до 50/80 бар, для обеспечения равномерного заполнения структуры на большой площади;
• Рабочие формы могут быть скопированы в оборудовании для снижения затрат на использование форм для нано-тиснения большой площади;
• Стандартный мощный ультрафиолетовый светодиодный поверхностный источник света (365 нм, интенсивность света 1000 МВт/см²), источники света особой мощности и со специальной и смешанной длиной волны могут быть настроены индивидуально.

Технические параметры