Система молекулярно-лучевой эпитаксии Sphere-300


Производитель: Китай (290)

0 USD

Технические характеристики

Sphere 300 представляет собой сферический корпус из нержавеющей стали марки 316, изготовленный методом аргонно-дуговой сварки. Диаметр корпуса составляет 300 мм, при этом возможно установка до 5 источников испарения.

 

Камера роста Sphere 300 оснащена различными фланцевыми соединениями и имеет полный набор функций, включая возможность проведения диагностики с помощью рефлекционной высокоэнергетической электронной дифракции.

 

Система предназначена для выращивания образцов небольших размеров (совместима с прямоугольными подложками) и идеально подходит для научных исследований, особенно в области получения высококачественных тонких плёнок.

 

Особенности:

  • Небольшая и экономичная система молекулярно-лучевой эпитаксии;
  • Может комбинироваться с измерением;
  • Может использоваться в качестве системы предварительной обработки для подготовки образцов перед выращиванием или их обработки после завершения процесса роста.

 

Технические параметры

Sphere-300

Описание модуля

Параметры конфигурации

Камера для выращивания

Полость

Материал полости

SS316

Размер полости

300 мм I.D

Температура выпечки

Макс.200℃

Фоновый вакуум

<5×10-10 мбар

Насосная система

Молекулярный насос 300Л/с +10 м3/ ч механический насос

Система измерения вакуума

Ионный манометр + манометр Пирани

Ионный насос

Опционально

Держатель образца

Размер образца

Держатель образца флажкового типа

Способ нагрева подложки

Лучистое отопление

Температура нагревателя подложки

Комнатная температура-1200К

Электроннолучевой нагрев

Опционально

Нагрев постоянным током

Опционально

Холодильный модуль с жидким азотом

Опционально

Компоненты

Конфигурация источника испарения

3xDN40CF, 1xDN100CF

Перегородка с независимым источником испарения

Пневматический привод

QCM

Стандартная конфигурация

РИД

15 кэВ-30 кэВ

Источник ионов

Опционально

РГА

Опционально

Сверхпроводящий магнит

Тип магнита

Сухое /GM охлаждение

Магнитная среда

Полость комнатной температуры

Диаметр полости

105 мм

Напряженность магнитного поля

±9Т

Однородность магнитного поля

<0.1%

Быстрая загрузочная камера

Полость

Материал полости

SS316

Температура выпечки

Макс.200℃

Фоновый вакуум

<5×10-8 мбар

Насосная система

Молекулярный насос 80Л/с + механический насос 10 м 3

Система измерения вакуума

Датчик полного диапазона

Компоненты

Столик для образцов

6 или 12 станций

Трансферный манипулятор

CF35/600 мм

Манипулятор

CF35/150 мм

Системная интеграция и контроль

Программное обеспечение GUIDE

Стандартная конфигурация

Система выпечки

Стандартная конфигурация

Системный кронштейн

Стандартная конфигурация

Вакуумная система освещения

Опционально

Плазменная очистка

Опционально

ПЗС -камера

Опционально

 

Модель

Стоимость, доллары США

Система молекулярно-лучевой эпитаксии Sphere-300

По запросу

Copyright MAXXmarketing GmbH
JoomShopping Download & Support