Диффузионная вертикальная печь для пластин диаметром 300 мм

Описание

Содержание

Замечания

Процесс подачи заявки

■ Атмосферные процессы

- Мокрое и сухое окисление

- Окисление в толстом слое (15 мкм)

- Погружение в скважину

- Отжиг H2, N2

■ Процессы LP-CVD

- Поли-Si

- D-Поли-Si

- Нитрид : Si3N4

- Нитрид с низким давлением (250 МПа)

- Нитрид со сверхнизким давлением (~ 50 МПа)

- Оксид - LTO, MTO, HTO, TEOS

- Плотный оксид : TEOS (2 мкм)

- SiC CVD

Рабочая температура

- 200℃ ~ 400℃ / Низкотемпературный процесс

- 400℃ ~ 900℃ / LP-CVD-процесс

- 900℃ ~ 1250℃ / Высокотемпературный процесс

Зона контроля температуры

- 4 или 5 зон

Точность измерения температуры

- ±1℃ at 200℃ ~ 400℃

- ±0.5℃ at 500℃ ~ 1250℃

Равномерность толщины пленки

- От одной пластины к другой: <3%

- От пластины к пластине: <3%

- От одной пластины к другой : <3%

Возможные технологические газы

- H2, Ar, O2, N2O, N2, SiH4, NH3, B2H6,  PH3, SiH2Cl2, TEOS

Размер пластины

- 300mm

Размер партии

- 50 ~ 100 вафель

Лодочный лифт

- Автоматическое вращение по 1 оси (опция поворота)

Тип контроллера

- Управление ПК на базе ПЛК (совместимость с Windows 10)

Размеры  (W*D*H)

- 1700 * 1100 * 2800 (мм) / Вместимость 50 вафель.

- 1700 * 1100 * 3400 (мм) / Вместимость 100 вафель.

Источник питания

- 3 фазы 380 В, 100 А (система будет адаптирована к электроснабжению в конкретной стране)

Охлаждающая вода

- Max. 10 LPM

Сжатый сухой воздух

- 500 ~ 1000 kPa

Отвод тепла

- 150 m³/h

Модель:

Стоимость:

Диффузионная вертикальная печь диаметром 300 мм

По запросу