Технические параметры
|
Применение |
Стенд для очистки RCA |
|
Образец продукта |
Si, сапфир, стекло, керамика и т. д. |
|
Размер подложки |
От 4 до 8 дюймов |
|
Вафельная ручка |
Тип кассеты |
|
Химическая ванна |
ПТФЭ, кварц или SUS316L |
|
Химический нагрев |
Макс. 150 ℃ |
|
Звуковой |
Ультразвуковой или мегазонный |
|
QDR |
Пузырь N2, подача DI, душ DI, перелив |
|
Опция |
Химическая циркуляция |
|
Контроль |
Управление ПК или ПЛК |
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Станок для влажных работ AquaChem-CA |
По запросу |
JoomShopping Download & Support