Устройство нанесения покрытий и синтеза материалов COSMOS – L200

Материалы для нанесения

SiO2, Si3N4, поликремний, поликремний с n-легированием, поликремний с p-легированием

Размер подложки

Макс. 8 дюймов

Выход продукта

От 1 до 8 дюймов: 1 пластина/прогон, 3 пластины/прогон при 4 дюймах

Нагреватель подложки

> 400℃

Мощность плазмы

600 Вт при частоте 13,56 МГц или 1 кВт

Контроль давления

Дроссельная заслонка с барометрическим манометром (F. S. 10 Torr)

Предельное давление

< 5,0E-3 Торр

Камера блокировки нагрузки

< 5,0E-3 Торр

Вакуумный насос

Сухой насос

Контроль

Управление с ПК (программное обеспечение UPRO)

Опция

TMP, кассетный замок

Размеры (Ш*Д*В)

1452 мм x 900 мм x 1390 мм

Модель

Стоимость, доллары США

Устройство нанесения покрытий и синтеза материалов COSMOS – L200

 По запросу