Оборудование для наноимпринтовой литографии

Обработка форм для нано-тиснения требует использования передовых технологий прямого письма электронным лучом или лазером и технологии травления.

Технические характеристики

• Поддержка копирования с микролинз на формы с массивом полнообъективных микролинз, используемые в качестве мастер-форм для оптической обработки на уровне пластин;
• Поддержка копирования с высокоточных форм с наноструктурой небольшой площади на формы большого формата, используемые в качестве мастер-форм для полнообъективного тиснения CLIV;
• Поддержка различных типов микролинз;
• Поддержка пошагового тиснения и копирования клейкой подложки с тиснением методом отжима, подходящей для сращивания высокоточных форм для наноструктур;
• Оборудование поставляется с дозирующим устройством, которое поддерживает пошаговое тиснение и копирование дозирования, подходящим для сращивания форм для оптических структур на уровне пластин, таких как матрицы микролинз;
• Стандартный источник ультрафиолетового света на поверхности из светодиодов высокой мощности (365 нм, интенсивность света 200 МВт/см²), с водяным и холодным охлаждением, особой мощностью и специальным светом со смешанной длиной волны. Источники могут быть настроены индивидуально;
• Стандартное оборудование, внутренняя чистая среда и антистатическое устройство;
• Высокоточное замкнутое кольцо управляет платформой перемещения, а точность позиционирования превышает 1 мкм.

Технические параметры