Оборудование для литографии высокоточных УФ-наноимпринтов

Устройство поддерживает автоматическую загрузку и выгрузку из кассеты в кассету, автоматическое копирование гибких композитных рабочих форм и автоматическую замену рабочих форм. Все процессы выполняются в закрытом и чистом помещении для обеспечения качества результатов тиснения.

Технические характеристики

• Полностью автоматическое оборудование для литографии наноимпринтов с высокой точностью и соотношением сторон 150/300 мм;
• Технология CLIV для обеспечения точности рельефной структуры и целостности заполнения структуры;
• Кассета к кассете, автоматическая загрузка и разгрузка, оптический контроль краев, предварительное выравнивание;
• Гибкая композитная рабочая форма автоматически копируется в оборудовании, и рабочая форма автоматически заменяется, что подходит для непрерывного производства;
• Автоматическое выравнивание, автоматическое тиснение, автоматическое отверждение под воздействием, автоматическое высвобождение формы - все процессы автоматически выполняются в закрытом и чистом помещении для обеспечения качества тиснения;
• Стандартный cветодиодный источник поверхностного ультрафиолетового излучения высокой мощности (365 нм, интенсивность света 1000 МВт/см²), с водяным охлаждением и в холодном состоянии, особой мощности и специальные источники света со смешанной длиной волны могут быть настроены индивидуально;
• Производственная мощность может достигать 40 штук в час (в зависимости от конфигурации, материала, технологического процесса и других факторов), что подходит для массового производства дифрагированных оптических волноводов DOE, AR / VR (включая спиральную решётку), линейной поляризации решеток, суперлинз, биочипов, светодиодов, матриц микролинз и других применений;
• Полный набор процессов и материалов для нано-тиснения, включая DOE, спиральную решетку AR, структуру высокой плотности, с высоким соотношением сторон и другие процессы.

Технические параметры