Однопластинное влажное оборудование - Металлический лифт-офф - Metal Lift-Off

Габаритные размеры

Д × Ш × В (мм) = 2470 × 2000 × 2130 (агрегаты поступают раздельно, длина может изменяться в зависимости от конфигурации)

Вес оборудования

3600 кг

Особенности оборудования

Специально разработано для удаления стойких и трудноудаляемых фоторезистов. Конструкция с ванной для длительного, высокотемпературного, циркуляционного пропитки экономит расход химикатов и повышает процент удаления фоторезиста. Камера высокого давления (макс. 3000 psi) для высокоэффективного вторичного удаления фоторезиста. Фильтрация крупных частиц фоторезиста через сетку в сочетании с фильтром тонкой очистки повышает технологические возможности и избегает чрезмерного расхода фильтров. Рециркуляция и повторное использование химических растворов.

Конструкция оборудования

LP + Буферная станция + Ванна пропитки + Камера High-Pressure Jet + Финальная очистка + Блок регулирования и основного питания (Зона буферной емкости)

Тип очистки/травления

"Сухой вход - сухой выход" (Dry-in/Dry-out)

Способ сушки и управления

Сушка: Spin + Сушилка N2
Управление: PC + PLC

Безопасность

Полный комплект средств защиты: защита от утечек, контроль уровня, обнаружение пластины, защита от ошибок оператора (Fool-proof design) и др.

Надежность

1. Эффективность удаления частиц ≥ 95%.
2. Отсутствие остатков фоторезиста при проверке в 100x OM.
3. Фильтрация воздуха через FFU.
4. Система рециркуляционной фильтрации.
5. Полностью автоматическая/ручная система считывания штрих-кода.

Эксплуатационные параметры

Напряжение: 3-фазный, 4-проводный, AC 208В, 50Гц
Мощность: ~18 кВт (зависит от конфигурации)
Давление CDA: 5-7 кгс/см²
Расход CDA: 200-600 л/мин
Давление PN2: 5-7 кгс/см²
Расход PN2: 50-400 л/мин
Расход вытяжки: ≥ 200 Па

Модель

Стоимость, доллары США

Однопластинное влажное оборудование - Металлический лифт-офф - Metal Lift-Off

По запросу