Технические характеристики
Система предназначена для каталитической окислительной реакции твердых образцов при высоких температурах и давлениях. В реакционную камеру встроен модуль охлаждения жидким азотом, что облегчает отжиг образцов.
Особенности:
- Отдельный лазерный нагрев для быстрого разогрева образцов;
- Модуль охлаждения жидким азотом для отжига образцов;
- Плотность уплотнения реакционной камеры до 5 бар;
- Измерение температуры с помощью термопары типа K на охладителе и инфракрасного пирометра на подставке образцов;
- Диапазон температур от 150 К до 1300 К;
- Точный температурный контроль с точностью PID-регулятора ±0,1 К.
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
Система высокотемпературной лазерной обработки под давлением |
По запросу |
JoomShopping Download & Support