Мишень для распыления титана (Ti) высокой чистоты для нанесения тонких плёнок методом PVD напыления

Титан — химический элемент с символом Ti и атомным номером 22. Это блестящий переходный металл серебристого цвета. Его температура плавления составляет (1660±10) ∘C, температура кипения — 3287 ∘C. Он отличается малым весом, высокой твёрдостью и устойчивостью к коррозии под воздействием всех типов хлорсодержащих химических веществ.
Титан устойчив к коррозии в морской воде, при этом растворяется как в кислой, так и в щелочной среде.
Сплавы титана широко применяются в аэрокосмической отрасли, химическом машиностроении, нефтяной промышленности, медицине, строительстве и других областях благодаря выдающимся свойствам: низкой плотности, теплопроводности, отличной коррозионной стойкости, свариваемости и биосовместимости.
Титан способен поглощать газы — водород, CH4​ и CO2​, — и широко используется в системах высокого и сверхвысокого вакуума. Мишень для распыления титана может применяться при изготовлении сетевых схем СБИС (LSI), сверхбольших интегральных схем (VLSI) и ультрабольших интегральных схем (ULSI), а также в качестве материалов барьерных металлов.
Мишени для распыления титана имеют чёткую внешнюю маркировку для обеспечения эффективной идентификации и контроля качества. Принимаются все меры предосторожности, чтобы избежать любых повреждений, которые могут возникнуть при хранении или транспортировке.
Мишени для распыления титана отличаются сверхвысокой чистотой и однородностью. Они доступны в различных формах, степенях чистоты, размерах и по разным ценам. Мы специализируемся на производстве высокочистых материалов для нанесения тонких плёнок с превосходными характеристиками, максимально возможной плотностью и минимально возможным средним размером зёрен. Они используются для покрытия пресс‑форм, декоративных покрытий, деталей автомобилей, низкоэмиссионного стекла (low‑E glass), полупроводниковых интегральных схем, тонкоплёночных резисторов, графических дисплеев, в аэрокосмической отрасли, магнитной записи, сенсорных экранах, тонкоплёночных солнечных батареях и в других применениях физического осаждения из паровой фазы (PVD).