Применение
Отверждение фоторезиста, отверждение клея
Размер подложки
8 дюймов и ниже
Применимый материал подложки
Кремний, карбид кремния, нитрид галлия, арсенид галлия, сапфир, кварцевое стекло
|
Модель |
Стоимость, доллары США |
|
SINO Plasma100 UV |
По запросу |
JoomShopping Download & Support