Плазменный очиститель с частотой 40 кГц

Плазменный очиститель с частотой 40 кГц - это одна из новых высокотехнологичных технологий, использование плазмы для достижения обычных методов очистки не позволяет достичь такого эффекта. Плазма - это состояние вещества, также известное как четвертое состояние вещества, и не относится к обычным твердому, жидкому и газообразному состояниям. Приложите к газу достаточно энергии, чтобы перевести его в состояние плазмы. К "активным" компонентам плазмы относятся: ионы, электроны, атомы, активные группы, возбужденные нуклиды (метастабильное состояние), фотоны и т.д. Плазменный очиститель предназначен для использования свойств этих активных компонентов для обработки поверхности образца с целью достижения очистки, нанесения покрытия и других целей.

Технические характеристики

Плазменный очиститель 40 кГц - это одна из новых высокотехнологичных технологий, использование плазмы для достижения обычных методов очистки не позволяет достичь эффекта. Плазма - это состояние вещества, также известное как четвертое состояние вещества, и не относится к обычным твердым, жидким и газообразным состояниям. Приложите к газу достаточно энергии, чтобы диссоциировать его в плазменное состояние. "Активные" компоненты плазмы включают: ионы, электроны, атомы, активные группы, возбужденные нуклиды (метастабильное состояние), фотоны и т.д. Плазменный очиститель предназначен для использования свойств этих активных компонентов для обработки поверхности образца с целью достижения очистки, нанесения покрытия и других целей.。

Технические параметры