Печь очистки графита GP120

Графит высокой чистоты в основном используется в таких областях, как производство полупроводников, где предъявляются очень строгие требования к примесям графита. Компания Northern Huachuang Vacuum R&D применяет методы химической очистки. Для очистки графита при высоких температурах используются химические газы. Общая зольность очищенного графита может составлять. Достичь 5 частей на миллион.

Технические характеристики

• Стабильная структура при сверхвысоких температурах.
• Технология контроля за более низким энергопотреблением в промышленности.
• Комплексное решение для очистки газа.
• Точное управление газовым полем и потоком.

Рабочая температура: 2400℃

Технологический газ: газообразный галоген.

Однородность температуры: ≤±5℃

Абсолютный вакуум в холодном состоянии: 5 ПА